Ionic Self-Assembly에 의한 Multilayer의 제작,설계post
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작성일 23-07-06 04:37
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3) 자른 substrate를 세척액(H2SO4/H2O2 - 7:3)을 이용하여 약 3시간 정도 초음파 세척한 후, 증류수를 이용하여 다시 세척한다.
2) silicon substrate나 Quartz substrate응 2x2cm의 크기로 자른다.
4) 이렇게 세척된 substrates를 가열된 H2O/H2O2/NH3(5:1:1) 혼합액(80℃)에 1시간 정도 담근 후, 질소가스를 이용해서 건조시킨다.
5) 제작된 substrate를 먼저 PAH수용액에 15분 정도 담근 후 …(To be continued )
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다. Ionic Self-Assembly에 의한 Multilayer의 제작/설계
Post-report
학과 : 화학 Engineering과
학번：200
이름 :
담당교수 : 이
실험날짜 : 2xxx.
1. Title
2xxx. 6. 2. Ionic Self-Assembly에 의한 Multilayer의 제작/설계
2. Abstract
1) Object
이번 실험에서는 직접 Ionic Self-Assembly 방법에 의해 Multilayer를 제작해 보고 제작 방법에 따른 特性(특성)과 analysis(분석) 반법에 대해 알아본다.
2) Reagent and Apparatus
PAH-Poly(allylamine hydrochloride), PSS-Poly(sodium 4-styrenesulfonate), 질소가스, 과산화수소, 암모니아, Quartz or Silicon substrate [100]
3) Experimental Procedure
- dipping method
1) 0.1M의 PSS와 PAH수용액을 만든다.
